الرئيسية
الإيداع
الاستشهاد
أسئلة متكررة
حول المستودع
اتصل بنا
EN
تسجيل الدخول
مشاركة
مشاركة
نسخ
تاثير المعاملة الحرارية السريعة على تحضير كاشف ضوئي من بورس سليكون محضر بطريقة التنميش المحتث بالليزر == Effect Of The Rapid Thermal Treatments On Photodiode Preparation Of Porous Silicon Prepared By Laser Assisted Etching
اسم المؤلف:
الاء عبد الجبار حسين
الجامعة:
الجامعة التكنولوجية
اسم المشرف:
علوان محمد علوان
الموضوع العام:
علوم الفيزياء
الموضوع الدقيق:
فيزياء الليزر والكهروبصريات
الدرجة:
ماجستير
اللغة:
الانكليزية
السنة:
2011
مكان الجامعة:
بغداد
الصفحات الاولى:
26T524 - p.pdf