مشاركة

دراسة الخواص الفيزياوية للاكاسيد المنماة على ارضيات سليكونية بطريقة الاكسدة الانودية == Study of Physical Properties For Grow The Oxide On Silicon Substrate By using Anodic Oxidation

اسم المؤلف: عاصم احمد عيسى محمد
اسم المشرف: سعد الله توفيق سليمان
الموضوع العام: علوم الفيزياء
السنة: 2010
الموضوع الدقيق: الفيزياء
الدرجة: دكتوراه
الجامعة: جامعة الموصل
اللغة: العربية
مكان الجامعة: الموصل
الصفحات الاولى: T63182 - p.pdf