الرئيسية
الإيداع
الاستشهاد
أسئلة متكررة
حول المستودع
اتصل بنا
EN
تسجيل الدخول
مشاركة
مشاركة
نسخ
دراسة الخواص الفيزياوية للاكاسيد المنماة على ارضيات سليكونية بطريقة الاكسدة الانودية == Study of Physical Properties For Grow The Oxide On Silicon Substrate By using Anodic Oxidation
اسم المؤلف:
عاصم احمد عيسى محمد
اسم المشرف:
سعد الله توفيق سليمان
الموضوع العام:
علوم الفيزياء
السنة:
2010
الموضوع الدقيق:
الفيزياء
الدرجة:
دكتوراه
الجامعة:
جامعة الموصل
اللغة:
العربية
مكان الجامعة:
الموصل
الصفحات الاولى:
T63182 - p.pdf