الرئيسية
الإيداع
الاستشهاد
أسئلة متكررة
حول المستودع
اتصل بنا
EN
تسجيل الدخول
مشاركة
مشاركة
نسخ
تحضير ودراسة طبقة SiO2 والمحضرة بالاكسدة الليزرية في نبيطة MOS == Preparing and Study the SiO2 film Using Laser Oxidation for MOS Device
اسم المؤلف:
مهند مؤيد الياس القزاز
الجامعة:
جامعة الموصل - كلية العلوم
الموضوع العام:
علوم الفيزياء
الموضوع الدقيق:
الفيزياء
الدرجة:
ماجستير
اللغة:
العربية
السنة:
2010
مكان الجامعة:
الموصل
الصفحات الاولى:
T91494 - p.pdf